事实上 ， 我国是在缺乏经验、缺乏专业技术人才 ， 缺失关键上游原材料的条件下 ， 全靠自己摸索 。 近年来 ， 尽管光刻胶研发有了一定突破 ， 但国产光刻胶还是用不起来 。 目前 ， 国外阻抗已达到15次方以上 ， 而国内企业只能做到10次方 ， 满足不了客户工艺要求和产品升级的要求 ， 有的工艺虽达标了 ， 但批次稳定性不好 。
“10次方的光刻胶经过多次烘烤 ， 由于达不到客户需求的防静电作用 ， 不能应用到最新一代窄边框、全面屏等高端面板上 。 而国外做到15次方就有了很好的防静电作用 。 这还是我们的光刻胶材料、配方、生产工艺方面存在问题 。 ”李中强说 。
关键指标达不到要求 ， 国内企业始终受制于人 。 就拿在国际上具有一定竞争实力的京东方来说 ， 目前已建立17个面板显示生产基地 ， 其中 ， 有16个已经投产 。 但京东方用于高端面板的光刻胶 ， 仍然由国外企业提供 。
基础性研究仍需发力 ， 政府要重视鼓励应用牵引
能让显示屏幕绚丽多彩的光刻胶 ， 仍是中国半导体产业之“痛” 。 该如何打破欧美及日本等国家和地区的封锁与垄断？
业内人士认为 ， 按照现在“单打独斗”的研发路径 ， 肯定不行 。 政府相关部门要加大产业政策的配套支持力度 ， 应从加快完善整个产业链出发 ， 定向梳理国内缺失的、产业依赖度高的关键核心电子化学品 ， 要针对电子化学品开发难度高 ， 检测设备要求高的特点 ， 组织汇聚一些优势企业和专家 ， 形成一个产业联盟 ， 国家建立一个生产应用示范平台 ， 集中力量突破一些关键技术 。
江苏博砚电子科技有限公司董事长宗健表示 ， 光刻胶要真正实现国产化 ， 难度很大 。 最大问题是国内缺乏生产光刻胶所需的原材料 ， 致使现开发的产品碳分散工艺不成熟、碳浆材料不配套 。 而作为生产光刻胶最重要的色浆 ， 至今依赖日本 。 前道工艺出了问题 ， 保证不了科研与生产 ， 光刻胶国产化就遥遥无期 。 因此 ， 必须通过科研单位、生产企业的协同创新 ， 尽快取得突破 。
【中国半导体产业因光刻胶失色】有专家提出 ， 尽管国产光刻胶在高端面板一时用不起来 ， 但政府还是要从政策上鼓励国内普通面板的生产企业尽快用起来 。 只有在应用过程中才能发现问题 ， 解决问题 ， 不断提升技术、工艺与产品水平 ， 实现我国关键电子化学品材料的国产化 ， 完善我国集成电路的产业链 ， 满足国家和重点产业的需求 。 （采访人员 过国忠）
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