【新EUV技术或将降低智能手机成本】
据Okinawa Institute of Science and Technology(OIST)的一项最新研究报告显示 , 一种创新的极紫外光刻技术(EUV)有望显著降低芯片制造的成本 , 进而可能减少消费者购买智能手机的费用 。 该研究由OIST教授Tsumoru Shintake领导 , 提出了一种新的设计思路 , 旨在通过减少反射镜数量来提高能源效率 。
OIST的研究表明 , 这种新型EUV机器仅需传统设备10%的电力即可运行 , 其资本投入也大幅下降至不到1亿美元 。 传统的EUV机器通常需要超过1兆瓦的电力和超过2亿美元的资金投入 , 而新设计则将能耗降至不足100千瓦 , 极大地节约了能源消耗 。 此外 , 新机器还减少了对高功率光源的需求 , 从传统的200瓦降至仅需20瓦 。
Shintake教授指出 , 通过将两个轴对称镜面以直线排列并带有微小中心孔的设计 , 可以有效解决过去难以克服的技术难题 。 这一发明几乎完全解决了这些鲜为人知的问题 , 使得即使小型的EUV光源也能达到同样的效果 。 OIST已为这项革新性的EUV技术申请了专利 , 预计将在全球EUV光刻市场中发挥重要作用 , 该市场预计到2030年将达到174亿美元规模 。
参考链接:
https://www.phonearena.com/news/new-version-of-euv-could-drop-foundry-costs_id163174
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