光刻机又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是制造芯片的核心装备 。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上 。光刻机的种类可分为：接触式曝光、接近式曝光、投影式曝光 。
光刻机的工作原理是通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上 。然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图 。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序 。光刻机的制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，因此，世界上只有少数厂家掌握 。
【光刻机是干什么用的 光刻机是谁发明的】
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