高端光刻机哪个国家能造光刻机哪个国家能造( 四 ) _中国光刻机

GCA的惨败，促使美国调整战略。
由于苏联解体，世界格局转变为一超多强，美国的重心不再是硬着头皮死磕，而是扶植弱小的傀儡，自己在幕后对其进行操纵。光刻机方面的傀儡，正是荷兰的ASML公司。
美国的傀儡方式简单粗暴，虽然他们自己不再做顶尖的光刻机，把市场让给了ASML 。

但是在ASML的EUV光刻机上，很多都是美国制造的零部件，比如美国Cymer公司的大功率光源。
这种光源，能把193纳米的短波紫外线，通过多次精密反射，得到13.5纳米的极紫外线，也就是所谓的“EUV” 。
ASML虽然具有领先全球的尖端光刻机技术，却无法制造这类零部件，只能通过从美国、德国等国家的供应商处购买。
如果美国停止供应光源，那么ASML很可能会面临停产。
因此今年3月，ASML才会公开表态，解释为何不卖给我国EUV光刻机：“这不是我们的选择，而是政府们的选择。”

他们口中的政府，明面上看是荷兰，实际上是对中国虎视眈眈的美国。
就目前的局势而言，倘若ASML跟我国签订合同，准备卖给我们光刻机，交易多半要以“离奇失败”告终。
到时，美国多半会迅速扶持一家新的光刻机公司，用来替代ASML 。毕竟美国掌控着诸多核心部件，相当于掌握了谁能制造EUV光刻机的决定权。
是以，中国就算有能力造出EUV光刻机，也要想办法解决部件等问题。无论是自主研发，还是寻找靠谱的供应商。而这，才是中国能否制造出顶尖光刻机的重要前提。
那么问题来了，我国真的能追上荷兰的进度吗？

中国还有机会跟上步伐吗？去年1月，荷兰高科技学院的董事总经理、《光刻巨人：ASML的崛起之路》作者瑞尼·雷吉梅克，曾在一场采访时说：

【高端光刻机哪个国家能造光刻机哪个国家能造】“如果没有限制，中国（5纳米光刻机）肯定能在5~10年内追上来。”

目前，我国的上海微电子装备有限公司，已经放出了28纳米DUV光刻机的部分信息，预计年底之前交付。

虽然这还不是EUV光刻机，但是需要知道一点，我国在研究DUV光刻机的同时，也在攻克EUV方面的种种难关。
去年央视播放了一段鼓舞人心的新闻：中科院研制出了“高能同步辐射光源”，是世界上亮度最高的第四代同步辐射光源之一，使我国的EUV光源技术向前迈出一大步。
中科科美也紧随其后宣布，他们研制的0.1nm镜头镀膜装置，也已经正式投入使用。如此，国产EUV光刻机的镜头，也不再是大难题。