高端光刻机哪个国家能造光刻机哪个国家能造( 五 ) _中国光刻机

工作人员正在安装高能同步辐射光源
此外，我国清华大学联合华卓精科公司，历时三年，打造出了相当于光刻机“心脏”的双工作台，并顺利通过验收。
与此同时，中国也成为世界上第二个，掌握双工作台技术的国家。
不仅如此，华卓精科还继续突破难关，研制出了“6自由度磁浮微动台”，进一步提高了精度。
这三项技术，都是EUV光刻机中最难以攻克的三个难关。但是这背后，说多了都是汗水与委屈。

有网友发现，华卓精科3年累计获得7.27亿元的政府补贴，净利润却只有4800多万元。
一些人看过数据后，认为华卓精科就是在浪费钱，把这7.27亿拿去投资，都不至于只赚4800多万。
从利润的角度来看确实如此，但这无疑是一种短视。
如果真这么做，虽然钱越来越多，技术却会越来越落后。到那时，处在垄断地位的卖家漫天要价，从我们手里大把大把抢钱。
说到底，相较于钱财来说，掌握核心技术才是硬道理。而中国制造EUV光刻机的难度，几乎是世界最难的。

我们不仅得不到任何技术上的帮助，还处处受人封锁，连一些小部件都没得买，只能自己研制。
因此，未来中国研制出EUV光刻机的时候，多半也是光刻机零部件的供应商。
是以，看待中国EUV光刻机，既不能一个劲否定，也不能忽视客观条件“乱吹”，甚至鼓吹“弯道超车” 。
要知道再“弯道超车”，就得做超过3纳米EUV光刻机的划时代产品了，毕竟台积电和三星已经准备量产3纳米的芯片了。
我国目前连5纳米光刻机都没有做出了，直接奔着3纳米以下去，必然要经历更多难关。不一定能超车，但一定是在走弯路。

到那时，我们就算真做出来超过3纳米级别的光刻机，美国等西方国家早就甩我们几条街了。
一味执着于5纳米、3纳米等西方标准，注定要被别人牵着走。对于我国来说，脚踏实地、按照自己的能力，做出优质的中国光刻机才是正事。
参考资料[1]央视新闻，《家重大科技基础设施！高能同步辐射光源首台科研设备安装》
[2]瑞尼·雷吉梅克，《光刻巨人ASML崛起之路》
[3]澎湃新闻，《专访荷兰ASML中国总裁：对向中国出口光刻机保持开放态度》
[4]《创投时报》，《中国也有光刻机，重重困难中突围而出》