mosfet工作原理
MOSFET是一种可以广泛使用在模拟电路与数字电路的场效晶体管,其工作原理按导电沟道可分为P沟道和N沟道 。按栅极电压幅值可分为;耗尽型;当栅极电压为零时漏源极之间就存在导电沟道,增强型;对于N(P)沟道器件 , 栅极电压大于(小于)零时才存在导电沟道,功率MOSFET主要是N沟道增强型 。
其导通时只有一种极性的载流子(多子)参与导电,是单极型晶体管 。导电机理与小功率mos管相同 , 但 结构上有较大区别,小功率MOS管是横向导电器件,功率MOSFET大都采用垂直导电结构,又称为VMOSFET(Vertical MOSFET),大大提高了MOSFET器件的耐压和耐电流能力 。
mos管大电流击穿是什么原理MOS管的原理:
它是利用VGS来控制“感应电荷”的多少,以改变由这些“感应电荷”形成的导电沟道的状况,然后达到控制漏极电流的目的 。在制造管子时,通过工艺使绝缘层中出现大量正离子 , 故在交界面的另一侧能感应出较多的负电荷,这些负电荷把高渗杂质的N区接通,形成了导电沟道,即使在VGS=0时也有较大的漏极电流ID 。当栅极电压改变时,沟道内被感应的电荷量也改变,导电沟道的宽窄也随之而变 , 因而漏极电流ID随着栅极电压的变化而变化 。
作用:
1、可应用于放大电路 。由于MOS管放大器的输入阻抗很高,因此耦合电容可以容量较?。?不必使用电解电容器 。
2、很高的输入阻抗非常适合作阻抗变换 。常用于多级放大器的输入级作阻抗变换 。
3、可以用作可变电阻 。
4、可以方便地用作恒流源 。
5、可以用作电子开关 。
简介:
mos管,即在集成电路中绝缘性场效应管 。是金属(metal)—氧化物(oxid)—半导体(semiconductor)场效应晶体管 。或者称是金属—绝缘体(insulator)—半导体 。MOS管的source和drain是可以对调的,都是在P型backgate中形成的N型区 。在多数情况下 , 这个两个区是一样的,即使两端对调也不会影响器件的性能 。这样的器件被认为是对称的 。
结构特点:
MOS管的内部结构如下图所示;其导通时只有一种极性的载流子(多子)参与导电 , 是单极型晶体管 。导电机理与小功率MOS管相同,但结构上有较大区别,小功率MOS管是横向导电器件,功率MOSFET大都采用垂直导电结构,又称为VMOSFET,大大提高了MOSFET器件的耐压和耐电流能力 。
n沟道mos管
p沟道mos管
其主要特点是在金属栅极与沟道之间有一层二氧化硅绝缘层 , 因此具有很高的输入电阻,该管导通时在两个高浓度n扩散区间形成n型导电沟道 。n沟道增强型MOS管必须在栅极上施加正向偏压,且只有栅源电压大于阈值电压时才有导电沟道产生的n沟道MOS管 。n沟道耗尽型MOS管是指在不加栅压(栅源电压为零)时,就有导电沟道产生的n沟道MOS管 。
沟槽金属氧化物半导体场效应晶体管Trench MOSFET的工作原理是什么
工作原理是:当栅极和源极间加正向电压时,在P-和栅极相邻的区域,形成垂直的沟道,电流从漏极流向源极时,同样的,电流垂直流过芯片内部 。其结构特点为栅极的宽度远小于垂直导电的平面结构,具有更小的单元的尺寸和导通电阻 。
mos晶体管的工作原理及建模【mosfet工作原理,mos管大电流击穿是什么原理】MOS场效应管,即金属-氧化物-半导体型场效应管,英文缩写为MOSFET(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect-Transistor),属于绝缘栅型 。其主要特点是在金属栅极与沟道之间有一层二氧化硅绝缘层,因此具有很高的输入电阻(最高可达1015Ω) 。它也分N沟道管和P沟道管 。通常是将衬底(基板)与源极S接在一起 。根据导电方式的不同 , MOSFET又分增强型、耗尽型 。所谓增强型是指:当VGS=0时管子是呈截止状态,加上正确的VGS后 , 多数载流子被吸引到栅极,从而“增强”了该区域的载流子 , 形成导电沟道 。耗尽型则是指,当VGS=0时即形成沟道,加上正确的VGS时 , 能使多数载流子流出沟道,因而“耗尽”了载流子 , 使管子转向截止 。
还有一种MOS晶体管,叫做MOS栅极控制晶闸管 , 是一种新型MOS与双极复合型器件 。它采用集成电路工艺,在普通晶闸管结构中制作大量MOS器件,通过MOS器件的通断来控制晶闸管的导通与关断 。不知道是不是你要的?
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